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    電子半導(dǎo)體超純水系統(tǒng)在啟動(dòng)前的準(zhǔn)備工作

    更新時(shí)間:2025-03-23  |  點(diǎn)擊率:124
      電子半導(dǎo)體超純水系統(tǒng)是一種用于生產(chǎn)高純度水的設(shè)備,專(zhuān)為滿足電子半導(dǎo)體行業(yè)對(duì)水質(zhì)的高要求而設(shè)計(jì)。其通過(guò)多級(jí)純化工藝,將自來(lái)水或其他水源中的雜質(zhì)去除,達(dá)到超純水的標(biāo)準(zhǔn)。這些雜質(zhì)包括離子、有機(jī)物、微生物、顆粒物等,以確保水質(zhì)滿足電子半導(dǎo)體制造過(guò)程中的嚴(yán)格要求。廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造、集成電路制造、平板顯示器制造、光電子器件制造等領(lǐng)域。在半導(dǎo)體制造過(guò)程中,超純水用于清洗、蝕刻、摻雜等工藝步驟,確保產(chǎn)品的質(zhì)量和性能。
      電子半導(dǎo)體超純水系統(tǒng)啟動(dòng)前的準(zhǔn)備:
      1、檢查與確認(rèn)
      設(shè)備外觀檢查:仔細(xì)查看系統(tǒng)各部件外觀是否完好,有無(wú)泄漏、損壞跡象,包括管道連接處、閥門(mén)、儀表等部位。
      電源與氣源檢查:確保電源供應(yīng)穩(wěn)定,電壓符合設(shè)備要求;對(duì)于需要?dú)庠吹脑O(shè)備,檢查氣源壓力和供氣是否正常。
      水源檢查:確認(rèn)原水水質(zhì)符合系統(tǒng)進(jìn)水要求,如水溫、pH值、濁度等指標(biāo)應(yīng)在規(guī)定范圍內(nèi)。
      2、預(yù)處理設(shè)置
      過(guò)濾器檢查:檢查預(yù)處理中的過(guò)濾器(如砂濾器、活性炭過(guò)濾器等)是否安裝正確,濾料是否需要更換。如果濾料長(zhǎng)時(shí)間未更換或已達(dá)到使用壽命,應(yīng)及時(shí)更換,以保證過(guò)濾效果。
      加藥系統(tǒng)校準(zhǔn):若預(yù)處理中有加藥裝置(如絮凝劑加藥裝置),需根據(jù)原水水質(zhì)情況校準(zhǔn)加藥量,確保混凝沉淀效果良好。
      3、系統(tǒng)參數(shù)設(shè)定
      溫度設(shè)定:根據(jù)半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝需求,在控制系統(tǒng)中設(shè)定超純水的供水溫度。一般來(lái)說(shuō),不同的工藝環(huán)節(jié)對(duì)水溫有不同要求,例如光刻工藝可能需要將水溫控制在20-25℃。
      壓力設(shè)定:依據(jù)后續(xù)工藝設(shè)備的用水壓力要求,設(shè)置系統(tǒng)出水壓力。通常,蝕刻工藝可能要求的壓力在2-4bar之間,而清洗工藝可能要求1.5-3bar的壓力。
      流量設(shè)定:根據(jù)各用水點(diǎn)的用水量需求,合理設(shè)置系統(tǒng)的供水流量。可以通過(guò)流量計(jì)或控制系統(tǒng)中的流量調(diào)節(jié)功能進(jìn)行設(shè)定。
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